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沈陽科友真空技術有限公司公告
硬質涂層設備

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PlasArc-950多弧離子鍍膜設備

2019-02-16 點擊量:

產品特點 Product features
1.新一代弧源設計,具有更高的靶材利用率及更好的液滴控制;
Utilize new generation cathode to achieve better target utilization and reduced large particles;
2.刀具,微型刀具,刀粒,模具及零件涂層生產的理想選擇;
Ideal for large quantities of cutting tools, microtools, inserts, stamping, die-casting, plastic moulding and components;
3.可對產品進行涂前氮化處理;
Provide ion nitriding case hardening process before PVD coating;
4.可同爐沉積最多4種不同成分靶材材料;
Evaporation up to 4 target materials per batch;
5.更高的產能(每天4爐)。
Higher productivity (4 batches per day).

技術參數 Technical Parameters:

SKYVAC PlasArcTM 950 
轉盤直徑 Swing diameter 750mm
涂層有效高度 Coatable height 700mm
最大裝載量 Max. loading capacity 400kg
技術 Technology  多弧 Arc
弧源 Arc sources 12個弧源 (100mm) 12 cathode positions (100mm)
可選技術 Technology options 磁控靶,離子源及涂前氮化處理  Sputtering, Ion source and nitrogen treatment
氣體 Gas modules Ar, N2, H2, C2H2, O2, He
最大加熱溫度 Max. heating temperature 500℃


設備尺寸 Dimensions:  
長 Length 3640mm
寬 Width 2250mm
高 Height 2280mm
占地面積 Footprint 8.2m2
重量 Weight 7000kg






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