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沈陽科友真空技術有限公司公告
磁控濺射鍍膜設備

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非平衡磁控濺射與多弧離子鍍及CVD復合鍍膜系統

2017-03-17 點擊量:

1. 適用于鍍超硬納米膜、自潤滑膜等許多膜系
2. 設備可單獨安裝弧源或磁控靶,也可弧源與磁控靶共同安裝,可根據用戶的工藝要求配置
3. 采用自動控制系統,將鍍膜前后、鍍膜工藝過程和停機過程自動運行等集成于一體,可將工藝過程存儲為生產記錄,并選擇設置好的工藝菜單。

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