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沈陽科友真空技術有限公司公告
磁控濺射鍍膜設備

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BMS560B型磁控濺射與熱蒸發鍍膜設備

2017-03-17 點擊量:

1. 用于制備半導體、金屬、磁性、有機高分子材料、陶瓷和化學反應沉積薄膜,適用于各種單層膜、多層膜及摻雜膜系
2. 配有多套磁控靶,配有電動擋板,靶角度可沿軸線調節,可實現共濺射
3. 蒸發源多組,電極水冷,蒸發源之間隔斷,且均有獨立電動擋板,鍍膜均勻性良好。

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