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沈陽科友真空技術有限公司公告
PVD磁過濾弧設備

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磁過濾弧與回旋式磁控濺射復合鍍膜設備

2017-02-15 點擊量:

1. 通過磁過濾裝置選擇尺寸比較一致的粒子,在工件表面沉積致密均勻的薄膜,大大降低表面粗糙度,滿足表面改性的需求
2. 直流磁過濾弧源多套,可鍍復合膜層,大顆粒過濾率85-90%, 外形美觀,成膜質量好
3. 矩形磁控濺射靶多套,靶基距連續可調,可鍍復合膜層
4. 樣品臺公自轉結合
5. 真空獲得系統為旋片泵+羅茨泵+低溫泵

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