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沈陽科友真空技術有限公司公告
PVD磁過濾弧設備

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GLH200B/D單室/雙室磁過濾直流電弧鍍裝置

2017-02-15 點擊量:

1. 磁過濾弧源大顆粒過濾率85-90%,外形美觀,成膜質量好
2. 真空鍍膜室正背面分別開門,全不銹鋼結構,外表面噴砂處理,外形美觀
3. 樣品臺可旋轉,轉盤絕緣要求2000伏
4. 采用觸摸屏計算機控制,自動/手動轉換功能

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