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沈陽科友真空技術有限公司公告
PVD磁過濾弧設備

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FDJ650A型高真空多功能薄膜沉積設備

2017-02-15 點擊量:

1. 采用離子束濺射和直流弧源復合鍍膜技術,可用于開發單層或多層的金屬膜、半導體膜,介質膜,硬質膜(如類金剛石薄膜)及各種復合功能膜
2. 磁過濾直流弧源2套,大顆粒過濾率85-90%,外形美觀,成膜質量好
3. 設備安裝有濺射離子源,高能氣體離子源,射頻離子源,作為輔助沉積與樣品表面清洗
4. 樣品臺加熱自轉,可加偏壓

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