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沈陽科友真空技術有限公司公告
化學氣相沉積設備

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MPCVD-2微波等離子體化學氣相沉積設備

2017-02-16 點擊量:

1. 主要用于碳基超硬及寬帶隙半導體材料單晶、納米薄膜沉積工作方式為微波耦合反應沉積
2. 由沉積室、微波源、微波導入機構、真空系統、加熱樣品臺、工作氣路、總控電源、工作電源及機架組成
3. 樣品臺的加熱方式采用感應誘導加熱方式和等離子體自加熱結合方式,可加熱,可加負偏壓
4. 微波源與等離子體增強工作,微波源含微波發生器與匹配器
5. 采用PLC可編程控制器和觸摸屏,對設備真空抽氣過程進行程序控制

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