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沈陽科友真空技術有限公司公告
脈沖激光沉積設備

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PLD450A脈沖激光沉積系統

2017-03-06 點擊量:

1. 可制備納米級金屬薄膜、半導體薄膜、介質薄膜、氧化物薄膜
2. 可放置多塊靶材,靶臺可公自轉,自轉速度連續可調,激光轉靶與襯底距離連續可調
3. 樣品臺襯底可加熱,襯底轉速連續可調

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